晶圆、MEMS、光电装置、光掩膜、尺寸可达 9 英寸的方形基板
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
清洗、蚀刻、干燥、剥离、显影和工艺定制
1.更少的过处理时间(例如:过蚀刻),确保所需的完整层蚀刻
2.其它层的缺口和倾斜角更小
3.不同晶圆之间具有稳定的均匀性
4.可显著降低化学品消耗量
晶圆、MEMS、光电装置、光掩膜,尺寸可达 9 英寸的方形基板
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
前段蚀刻、后段蚀刻和清洗、晶圆减薄、应力消除、薄膜和损伤去除
晶圆、MEMS、光电装置、光掩膜、尺寸可达 9 英寸的方形基板
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
光掩膜
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
1.更少的过处理时间(例如:过蚀刻),确保所需的完整层蚀刻
2.其它层的切口和倾斜角更小
3.不同晶圆之间具有稳定的均匀性
4.可显著降低化学品消耗量
晶圆、MEMS、光电装置、光掩膜、尺寸可达 9 英寸的方形基板
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
SpinMetal 工具适用于以下材料的金属叠层蚀刻:镍铬合金、镍、铜、钴、铝、金、钛、钛钨合金、银、锑化铋等
晶圆、MEMS、光电装置、方形基板
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
晶圆、MEMS、光电装置、方形基板
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃
“我们的目标是提供前段和后段生产链所需的全系列湿法工艺解决方案。我们与客户合作,不断开发先进的新工艺,如:在目前市场上独特的 AP&S 金属剥离工艺.”
劳费尔 (Laufer) 女士指出