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CLEANSURF® - 用于半导体生产的新型 AP&S 清洁剂问世

CleanSurF® - 通过这部短片,我们与您分享了新的AP&S清洗剂的创造过程的一些印象。

在影片中,我们从一开始就伴随着这台新的清洗机,直到其交付。用于半导体生产的新型AP&S清洗机为SMIF和FOUPs、载体和盒子提供了最佳的颗粒和AMS去除。该清洗机具有很高的装载能力,每次运行可装载12 x 12英寸的FOUPs,并优化了配方时间。通过3平方米的紧凑占地面积和较低的水和氮气消耗,实现了有吸引力的总拥有成本。一个新的创新喷嘴概念保证了最佳的清洗效果。50多个喷嘴(DIW以及N2喷嘴)被安装在该工具上。

在CleanSurF印象网站上阅读更多关于新的AP&S清洗器的信息。

更多信息或关于新AP&S工具的个人谈话的请求,可发送至AP&S销售团队。